超高速光干涉式测厚仪 SF-3 SERIES
它以非接触方式对晶片和树脂的超高速、实时和高精度测量晶片等的研磨和抛光过程。
* 1:测量初始参考样品 AirGap 约 1000 μm 时的相对标准偏差 (n = 20)
实现高波长分辨率,同时支持广泛的薄膜厚度。
它也是工厂生产线的理想选择,因为它可以**地测量移动物体
通过约 φ20
由于可以从最远 200 mm 的距离进行测量,因此
规格
* 2:使用 WD80 mm 探头时的设计值
大冢电子的独特技术被封装在一个紧凑的机身中。
。
μm 的微小光点,可以测量具有各种表面条件的样品的厚度。
可以根据目的和应用构建测量环境。
基本構成
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带有支撑晶圆的临时键合晶圆 |
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研磨后300mm晶圆硅厚度的映射结果 |