产品名称：日本大塚电子显微分光膜厚仪OPTM series

显微分光膜厚仪 OPTM series

OPTM 是一种通过使用显微光谱法测量微小区域的绝对反射率，实现高精度薄膜厚度和光学常数分析的设备。

可以以非破坏和非接触的方式测量各种薄膜、晶片、光学材料和多层薄膜等涂膜的厚度。测量时间为1秒/点的高速测量是可能的。它还配备了软件，即使是初学者也可以轻松分析光学常数。

• 薄膜厚度测量所需的功能集成在头部。
• 用显微光谱法测量高精度绝对反射率（多层膜厚度、光学常数）
• 1点1秒内的高速测量
• 在显微条件下（紫外至近红外）实现宽测量波长范围的光学系统
• 区域传感器的安全机制
• 简单的分析向导，即使是初学者也可以分析光学常数
• 配备宏功能，可让您自定义测量顺序
• 可以分析复杂的光学常数（多点分析法）
• 兼容 300mm 平台
• 支持各种自定义
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  规格

  类型	OPTM-A1	OPTM-A2	OPTM-A3
  波长范围	230～800纳米	360～1100纳米	900～1600纳米
  膜厚范围*1	1纳米～35微米	7纳米～49微米	16纳米～92微米
  样本大小* 2	最大200×200×17 mm
  光斑直径	φ5 、 φ10 、 φ20 、 φ40

  * 以上规格为自动 XY 载物台。

  * 1 膜厚范围换算为SiO ₂。

  * 2 请联系我们获取 300 mm 载物台。

  
   

  类型	自动XY平台类型	固定架型	内置头型
  尺寸 （宽 x 深 x 高）	556×566×618毫米	368×468×491毫米	210×441×474 毫米 90×250×190 毫米*
  重量	66 公斤	38 公斤	23 公斤 4 公斤*
  最大消費電力	AC100V±10V 500VA	AC100V±10V 400VA

  * AC/DC电源单元

  图表

  
  自动XY平台类型

   

  
  内置头型

测量示例

半导体晶体管通过控制电流的通电状态来传输信号，但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流通过任意路径而在晶体管之间进行绝缘，并嵌入了绝缘膜。SiO ₂ (二氧化硅)和SiN(氮化硅)用于绝缘膜。SiO ₂用作绝缘膜，SiN用作具有比SiO ₂更高的介电常数的绝缘膜，或者在用CMP去除不需要的SiO ₂时用作阻挡层，然后SiN也被去除。这样，为了作为绝缘膜的性能和**的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。

液晶显示器通常具有如右图所示的结构。CF 在一个像素中具有 RGB，是一种非常高清的微小图案。主流的CF成膜方法是在玻璃的整个表面涂上颜料基色阻，用光刻法曝光，显影，每个RGB只留下构图部分。这时，如果色阻的厚度不恒定，作为彩色滤光片，可能会导致图案变形和色调变化，因此控制膜厚值很重要。

近年来，使用具有各种功能的高性能薄膜的产品已普及，根据用途，有时在薄膜表面需要具有耐磨性、耐冲击性、耐热性和耐化学性等特性的保护膜。我有。通常形成硬涂层（HC）膜作为保护膜层，但根据 HC 膜的厚度，它可能无法起到保护膜的作用，膜中可能会发生翘曲，或者可能会导致不均匀或外观变形，因此需要控制HC层的膜厚值。

ITO（氧化铟锡）是用于液晶显示器的透明电极材料，由于成膜后的退火处理（热处理），其导电性和颜色得到改善。此时，氧态和结晶度也发生变化，但这种变化可能相对于薄膜的厚度呈阶梯式变化，不能视为具有光学均匀组成的单层薄膜。对于这种 ITO，我们将介绍一个使用倾斜模型从上界面和下界面的 nk 测量倾斜度的示例。

如果样品表面有粗糙度，则将表面粗糙度建模为“粗糙层”，其中大气（空气）和膜厚材料以 1:1 的比例混合，并分析粗糙度和膜厚。 . 在这里，我们描述了一个测量表面粗糙度为几纳米的 SiN（氮化硅）的例子。

干涉滤光片通过形成具有受控膜厚和nk的膜，可以在指定波长范围内具有任意反射率和透射率。其中，精度特别高的膜是通过将高折射率层和低折射率层作为一对(组)重复多次成膜而形成的。以下是使用超晶格模型测量和分析此类样品的示例。

有机EL材料易受氧气和水分的影响，在正常大气下可能会发生改变或损坏。因此，成膜后立即用玻璃密封。以下是在密封时通过玻璃测量薄膜厚度的示例。中间的玻璃和空气层采用非干涉层模型。

材料nk需要通过最小二乘法拟合来分析膜厚值(d)。如果 nk 未知，则将 d 和 nk 都解析为可变参数。然而，在d为100nm以下的超薄膜的情况下，d和nk不能分离，这可能会降低精度并且无法获得准确的d。在这种情况下，测量具有不同d的多个样品，并且假设nk相同进行同时分析（多点相同分析）。这使得可以准确地获得nk和d。

如果基板表面不是镜面且样品粗糙度较大，则被测光会因散射而减少，测得的反射率会低于实际值。可以通过使用界面系数考虑基板表面的反射率的降低来测量基板上的薄膜的膜厚值。作为一个例子，我们将描述一个测量发丝状铝基板上的树脂膜的膜厚的例子。

DLC（类金刚石碳）是一种无定形碳基材料。它具有高硬度、低摩擦系数、耐磨、电绝缘、高阻隔性、表面改性和改善与其他材料的相容性等特点，被用于各种应用。近年来，根据各种应用，对膜厚测量的需求不断增加。
DLC膜厚测量一般采用破坏检查，即制备监视器样品并用电子显微镜观察截面，但大冢电子采用的光学干涉式膜厚计是无损和高速测量. 是可能的。通过改变测量波长范围，可以测量从超薄膜到超厚薄膜的广泛膜厚。
通过采用独特的显微镜光学系统，可以实际测量具有形状的样品，而不是监控样品。另外，在监视器上确认测量位置的同时进行测量，有助于分析异常原因。
我们将准备一个支持各种形状的定制倾斜/旋转平台。可以测量实际样品上的任意数量的点。
除非已知材料的光学常数 (nk)，这是光学干涉测量膜厚系统的弱点，否则无法进行**的膜厚测量。通过同时分析多个不同的样品，可以获得 nk与过去相比具有极高的准确性。
通过使用 NIST（美国国家标准与技术研究院）测试的标准样品进行校准，可确保可追溯性。

○ 齿轮 ○ 轴

■ DLC膜厚测量示例